华为新机突然上架，西方惊呼：没有EUV，中国芯片怎么做到的？
答案藏在合肥某实验室——一台国产光刻机正用'魔法攻克物理极限'，这束光，或将撕开10年技术封锁！
ASML已向英特尔交付全球首台第二代High NA EUV光刻机EXE:5200B，其光学系统数值孔径跃升至0.55，可单次曝光实现5nm工艺，将率先用于2nm芯片量产；同时正携手蔡司研发Hyper NA技术，为未来十年芯片制造突破储备光学解决方案。
上海微电子28nm DUV光刻机量产在即，实测良率达82%，固态光源降本成效显著，22nm技术亦有突破，其年产百台项目已获批；中科院光电所超分辨率光刻机达22nm工艺，中科科美镀膜装置提升光学性能；源卓微电子DiSS系列数字光刻机投产，年产能将达150台，完善了国产设备供应链。
展开剩余61%技术层面，极紫外光刻（EUV）技术持续迭代升级，衍生技术加速落地应用，但同时也面临刻蚀工艺重要性凸显、High-NA EUV技术商业化受阻等挑战；
市场端，机器人、人工智能等新兴产业崛起催生增量需求，中国市场呈现爆发式增长且自主化进程全面提速；
竞争格局方面，国际设备龙头的市场统治地位正遭遇中国等新兴势力冲击，行业将在技术突破、需求重构与生态博弈中开启新一轮变革周期。
为了方便大家，为大家找到几家相关企业，尤其是最后一家更是全国唯一拥有EUV光刻机光源技术的企业！
第一家：新莱应材
国内唯一光刻机高纯管路系统供应商，产品覆盖气体传输、污染控制等关键环节，客户包括上海微电子、ASML等。高纯管路系统技术壁垒高，国产替代空间明确，且已进入国际供应链。
第二家：南大光电
国内唯一量产ArF光刻胶的企业，产品导入中芯国际28nm产线，宁波基地新增产能2025年投产。光刻胶是光刻机产业链中的关键耗材，国产替代需求迫切，公司技术领先且已实现规模化应用。
第三家：茂莱光学
为上海微电子提供匀光模块，切入ASML供应链，光刻机业务营收占比12%（2024年），2025年或突破2亿元。光刻机光学组件技术难度高，公司已进入核心供应链，未来有望受益于国产光刻机放量。
最后一家便是我为各位挖掘到的全国唯一拥有EUV光刻机光源技术的黑马！
需知晓这家公司的友友誺訟茽枵（小婷说市）
1.公司是全国唯一拥有EUV光刻机光源技术的企业，是新一代光刻机突破的最强推动力！其掌握的高精度绝对式光栅尺、高精度角度编码器等技术，成为光刻机和工业母机的核心技术之一。
2.该公司参与了多个国家重大工程，具备承担国家级光刻机项目的能力。
3.此外，公司已经获得了中科院的1亿股抄底支持，这将为未来光刻机的技术突破提供强大支持，使其从中受益最大。
4.关键是，该公司股价目前处于盘整状态，但交易量已大幅放大，一旦光刻机国产替代进程加速，公司的股价将迎来主力资金的抱团，极有可能成为下一个10倍牛股！
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